化學修復方法是利用化學反應原理和土壤淋洗設備或土壤熱脫附設備將土壤中的污染物分解成無毒小分子，從而達到土壤修復的目的。其一般適用于高濃度污染場地的處理，主要的場地修復技術(shù)包括化學氧化、等離子體降解和光催化降解等。 1、化學氧化法：化學氧化修復技術(shù)是通過向污染土壤中加入化學氧化劑，利用氧化劑和污染物之間發(fā)生的化 學反應來實現(xiàn)土壤中污染物的降解。
2、等離子體降解：等離子體是由大量離子、電子、原子、分子以及未電離的中性粒子組成的宏觀上呈電中性的集合體。近幾年，等離子體作為一種新型技術(shù)被運用到環(huán)境領(lǐng)域. 由于在電離產(chǎn)生等離子體過程中能夠產(chǎn)生大量活性物質(zhì)如O3、H20 2、自由基(•0H)等，從而創(chuàng)造一種強氧化環(huán)境，將處于電離場中的有機物進行氧化分解。
3、光催化降解：是當半導體材料吸收的光能大于或等于半導體禁帶寬度時，電子由半導體的價帶躍遷到導帶上產(chǎn)生高活性電子e 。同時，在原來的價帶上形成1 個 空 穴h+ 。產(chǎn)生的空穴具有極強的氧化性(即獲取電子的能力)，可以與水作用形成羥基自由基˙OH)，從而直接將有機物降解為小分子物質(zhì)。

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